蘇大維格（300331）近日發(fā)布的2025年年度報告顯示，公司在微納制造領(lǐng)域持續(xù)加大技術(shù)投入，全年研發(fā)投入達1.87億元，較上年增長28.97%，占營業(yè)收入比重提升至9.17%。過去五年間，公司研發(fā)投入復(fù)合增長率保持在7.67%的水平，為技術(shù)創(chuàng)新提供了堅實支撐。

盡管研發(fā)投入顯著增加，但研發(fā)團隊規(guī)模略有收縮。報告期內(nèi)公司研發(fā)人員數(shù)量為401人，較上年的408人減少1.72%，占總員工比例從20.26%降至17.67%。這一調(diào)整或與公司優(yōu)化研發(fā)資源配置、聚焦核心領(lǐng)域有關(guān)。

作為國內(nèi)微納結(jié)構(gòu)產(chǎn)品制造和技術(shù)服務(wù)的領(lǐng)軍企業(yè)，蘇大維格已構(gòu)建起覆蓋納米級和微米級的光刻設(shè)備體系。公司自主研發(fā)的激光直寫光刻機和納米壓印光刻機形成技術(shù)平臺，支撐了公共安全防偽、消費電子新材料、高端智能裝備、反光材料四大事業(yè)群的發(fā)展。其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏、新型顯示、汽車等多個領(lǐng)域，形成多元化業(yè)務(wù)布局。

報告期內(nèi)，公司重點推進激光直寫光刻機在高端掩模制造、先進封裝領(lǐng)域的應(yīng)用，同時探索投影掃描光刻設(shè)備在光伏銅電鍍圖形化場景的技術(shù)落地。在超精密微納光學器件方面，虛實融合透明顯示、光柵及光柵尺、VR/AR、AR-HUD、光場屏等產(chǎn)品的研發(fā)驗證與商業(yè)化進程取得進展，光子芯片、光通信器件等前沿領(lǐng)域的技術(shù)儲備持續(xù)加強。

財務(wù)數(shù)據(jù)顯示，2025年公司實現(xiàn)營業(yè)收入20.40億元，同比增長10.82%；歸母凈利潤虧損1900萬元，較上年收窄68.09%；扣非凈利潤虧損7375.23萬元，同比改善21.89%。經(jīng)營活動產(chǎn)生的現(xiàn)金流量凈額為2.14億元，同比增長4.78%，顯示公司經(jīng)營質(zhì)量有所提升。